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半导体检测仪 PlasmaPro100 Estrelas牛津仪器
PlasmaPro100Estrelas是为满足微电子机械系统(MEMS)、先进封装和纳米技术市场的各种工艺需求而设计的平台。它提供了灵活的工艺选择,包括光滑侧壁工艺、高刻蚀速率腔刻蚀、高深宽比工艺
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PlasmaPro100 Estrelas牛津仪器半导体检测仪
PlasmaPro100Estrelas平台旨在满足微电子机械系统(MEMS)、先进封装以及纳米技术市场的各种工艺要求。该平台提供了工艺灵活性,包括光滑侧壁工艺、高刻蚀速率腔刻蚀、高深宽比工艺和锥形
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牛津仪器PlasmaPro100 Estrelas刻蚀设备 光滑侧壁工艺
牛津仪器PlasmaPro100 Estrelas刻蚀设备PlasmaPro 100 Estrelas 平台旨在提供深硅蚀刻(DSiE)领域的全方位的灵活性以满足微电子机械系统(MEMS
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牛津仪器PlasmaPro100 Estrelas刻蚀设备 锥形通孔刻蚀
PlasmaPro100 EstrelasPlasmaPro 100 Estrelas 平台旨在提供深硅蚀刻(DSiE)领域的全方位的灵活性以满足微电子机械系统(MEMS)、 先进封装以及
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牛津仪器PlasmaPro100 Estrelas刻蚀设备 高刻蚀速率腔刻蚀
品牌:牛津仪器型号:PlasmaPro100 Estrelas产地:欧洲PlasmaPro 100 Estrelas 平台旨在提供深硅蚀刻(DSiE)领域的全方位的灵活性以满足微电子
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牛津仪器PlasmaPro100 Estrelas刻蚀设备 广泛应用领域
PlasmaPro 100 Estrelas平台旨在确保覆盖MEMS,先进封装和纳米技术的广泛应用,从光滑侧壁工艺到高刻蚀速率腔刻蚀、高深宽比工艺和锥形通孔刻蚀,不需要更换腔室硬件就可以实现。硬件
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PlasmaPro100 Estrelas牛津仪器刻蚀设备
PlasmaPro100Estrelas平台旨在满足微电子机械系统(MEMS)、先进封装以及纳米技术市场的各种工艺要求,提供深硅蚀刻(DSiE)领域的全方位灵活性
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牛津仪器PlasmaPro100 Estrelas刻蚀设备
PlasmaPro 100 Estrelas 平台旨在提供深硅蚀刻(DSiE)领域的全方位的灵活性以满足微电子机械系统(MEMS)、 先进封装以及纳米技术市场的各种工艺要求。考虑到研究和生产
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SPM300系列半导体参数测试仪
设备概览基于拉曼光谱法的半导体参数测试仪,具有非接触、无损检测、特异性高的优点。可以对半导体材料进行微区分析,空间分辨率< 800nm (典型值),也可以对样品进行扫描从而对整个面进行均匀性
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SPM600系列半导体参数分析仪
SPM600 系列半导体参数分析仪是一款专用于半导体材料光电测试的系统。其功能全面,提供多种重要参数测试。系统集成高精度光谱扫描,光电流扫描以及光响应速率测试。40μm 探测光斑
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